Die Kombination von Plasmanitrierung und plasmagestützter Schichtabscheidung aus der Gasphase PACVD in einem Verfahrensablauf - Infos zum Artikel - Preisvergleich
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Die Kombination von Plasmanitrierung und plasmagestützter Schichtabscheidung aus der Gasphase (PACVD) in einem Verfahrensablauf

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Die vorliegende Arbeit entstand während meiner Tätigkeit als wissenschaftlicher Mitarbeiter am Institut fiir Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb (IFF) und am Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung (IP A), Stuttgart. Zum Dank für den Rückhalt während des Entstehens der Arbeit widme ich das Buch meiner Familie. Für ihre Unterstützung und ihr Verständnis danke ich ganz besonders meiner Frau Nicola. Mein Dank gilt Herrn Prof. Dr.-Ing. Dr. h. c. E. Westkämper für die großzügige Unterstützung und Förderung meiner Arbeit sowie Herrn Prof. Dr. rer. nat. R. Gadow fiir die Übernahme des Koreferates und die konstruktive Durchsicht der Arbeit. Darüber hinaus danke ich allen Mitarbeitern des Instituts, die mich in zahlreichen Diskussionen mit Anregungen und Kritik sowie durch ihre Mitarbeit unterstützt haben. Mein besonderer Dank gilt den Herren Dr. K. Melchior, Dr. G. Kampschulte, Dipl.-Ing. (FH) T. Bolch, Dr.-Ing. D. Mann, Dipl.-lng. P. Markschläger, Dipl.-lng. T. Lux, Dipl.-Phys. M. Ecke!, Dipl.-lng. A. Scheibe und Dipl.-lng. J. Stadlbauer. Des weiteren danke ich Herrn Dr.-Ing. W. Österle von der Bundesanstalt für Materialforschung und -Prüfung (BAM) in Berlin für die Durchführung der TEM- und SAD-Untersuchungen sowie Herrn Dipl.-Ing. D. Scherer vom Institut für Fertigungstechnologie keramischer Bauteile (IFKB) der Universität Stuttgart für die Durchführung der Rauheitsuntersuchungen. Ebenso danke ich Herrn Dipl.-Phys. R. Reiche vom Institut für Festkörperanalytik und Strukturforschung (IFS) des IFW Dresden für die Durchführung der WDX-Untersuchungen.

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Stand:07.05.2024
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