Semiconductors and Semimetals, Part A: Hydrogenated Amorphous Silicon : Preparation and Struct...

"Semiconductors and Semimetals, Part A: Hydrogenated Amorphous Silicon: Preparation and Structure" von R. K. Willardson ist ein umfassendes Werk, das sich tiefgehend mit den Eigenschaften und der Herstellung von hydrogeniertem amorphem Silizium (a-Si:H) beschäftigt. Dieses Material spielt eine entscheidende Rolle in der modernen Halbleitertechnologie, insbesondere in Anwendungen wie Solarzellen und Dünnschichttransistoren. Das Buch beginnt mit einer Einführung in die grundlegenden Konzepte und Eigenschaften von amorphem Silizium im Vergleich zu kristallinem Silizium. Es beleuchtet die Bedeutung der Wasserstoffpassivierung zur Verbesserung der elektronischen Eigenschaften des Materials. Ein wesentlicher Teil des Buches widmet sich den verschiedenen Methoden zur Herstellung von a-Si:H, einschließlich chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) und anderer fortschrittlicher Techniken. Die Autoren diskutieren detailliert die physikalischen und chemischen Prozesse, die während der Abscheidung ablaufen, sowie die Auswirkungen verschiedener Parameter auf die Qualität des Endprodukts. Darüber hinaus behandelt das Werk auch die strukturellen Eigenschaften von a-Si:H, einschließlich seiner atomaren Struktur und Defektmechanismen. Es werden verschiedene Analysemethoden vorgestellt, um diese Strukturen zu charakterisieren und zu verstehen. Insgesamt bietet das Buch eine fundierte Wissensbasis für Forscher, Ingenieure und Studenten im Bereich der Halbleiterphysik und -technologie. Es kombiniert theoretische Grundlagen mit praktischen Aspekten der Materialherstellung und -analyse, was es zu einem wertvollen Nachschlagewerk für alle macht, die sich mit hydrogeniertem amorphem Silizium beschäftigen.