Thin Film Deposition: Principles and Practice

"Thin Film Deposition: Principles and Practice" von Donald L. Smith ist ein umfassendes Werk, das sich mit den grundlegenden Prinzipien und Techniken der Dünnschichtabscheidung beschäftigt. Das Buch bietet einen detaillierten Überblick über die physikalischen und chemischen Prozesse, die bei der Herstellung dünner Schichten auf verschiedenen Substraten eine Rolle spielen. Es behandelt sowohl traditionelle Methoden wie PVD (Physical Vapor Deposition) und CVD (Chemical Vapor Deposition) als auch moderne Verfahren und Technologien. Der Autor erklärt die theoretischen Grundlagen dieser Techniken und deren praktische Anwendungen in unterschiedlichen Industriebereichen, wie z.B. in der Halbleitertechnik, Optik oder Materialwissenschaften. Zudem werden Aspekte wie Schichtcharakterisierung, Qualitätskontrolle und technologische Herausforderungen diskutiert. Das Buch richtet sich an Studierende, Forscher und Ingenieure, die ein tieferes Verständnis für die Wissenschaft und Technik der Dünnschichtabscheidung gewinnen möchten.